berita terkiniEvent

Dua Pebalap T2 Motorsport Targetkan Podium di Putaran Terkahir Blancpain GT World Challenge Asia

Motionupdate.com, JAKARTA – Ajang Blancpain GT World Challenge Asia 2019 akan memasuki putaran ke-6 yang akan berlangsung di Shanghai International Circuit, China pada tanggal 27-28 September 2019.

Putaran ke-6 merupakan putaran terakhir ajang Blancpain GT World Challenge Asia yang dimulai pada tanggal 6 April 2019 lalu. Rio Haryanto dan David Tjipto yang berada di bawah naungan T2 Motorsports menargetkan podium di putaran terakhir.

Kegiatan balap pada pekan ini dimulai dengan free practice selama 60 menit pada hari Kamis, 26 September 2019. Rio dan David memperoleh catatan waktu terbaik 2:07.673 dimana catatan waktu tersebut dinilai cukup kompetitif.

Irmawan Poedjoadi selaku team principal T2 Motorsports, mengatakan “Hasil latihan hari ini cukup baik, catatan waktu yang diperoleh oleh Rio dan David sudah sangat kompetitif setelah melakukan penyesuaian dan perbaikan turbo mobil. Kami juga merasa track ini cocok dengan karakter mobil Ferrari yang dimana menjadi poin plus bagi tim kami. mudah-mudahan catatan waktu kami dapat improve di official practice besok pagi.”

Sempat kecewa dengan permasalahan mobil pada race sebelumnya, Rio Haryanto berharap race penutup ajang Blancpain GT World Challenge Asia ini dapat berjalan dengan lancar

“Untuk target ke depan, saya ingin tampil kompetitif bersama rekan saya David Tjipto. Pada sesi free practice tadi memang ada kendala pada turbo mobil dan mengharuskan saya kembali masuk ke pit sebanyak tiga kali untuk penyesuaian. Semoga besok tidak ada kendala teknis dan kami berdua Insya Allah bisa naik podium pekan ini,” Jelas Rio.

Race penutup di Shanghai International Circuit ini juga dimeriahkan oleh 9 kompetitor yang baru bergabung dan cukup berpengalaman di Shanghai International Circuit. Meski kedua pebalap T2 Motorsports sudah pernah menjajal trek di Shanghai ini, adaptasi masih harus dilakukan agar dapat tampil lebih kompetitif.

Tags

Related Articles

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *

Close